MVS 1000 火花發(fā)射光譜儀可以對所有常見(jiàn)金屬材料進(jìn)行多功能、靈活和快速的材料分析。MVS 1000 以極具吸引力的成本使用最現代的檢測器技術(shù)。
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分析能力包括短波元素的精確分析,如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和鋁中的磷。
主要特征
完整而靈活地覆蓋所有常見(jiàn)的分析任務(wù)
簡(jiǎn)單的擴展選項
最新、專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的探測器技術(shù)
在檢出限、精密度、穩定性方面表現良好
堅固的結構,適用于惡劣環(huán)境
最廣泛的多矩陣應用
緊湊型光譜儀
技術(shù)參數
Paschen-Runge 設置中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
光學(xué)和讀出系統溫度穩定在 35 °C ± 0.1 °C,以獲得最佳的長(cháng)期穩定性
計算機控制的自動(dòng)分析
針對波長(cháng)范圍優(yōu)化的傳感器線(xiàn)
沒(méi)有傳感器線(xiàn)路涂層的高紫外線(xiàn)靈敏度
輕金屬真空室
免維護旋片泵
真空泵集成在外殼中
防止油回火和油擴散
采用 Stromtor 技術(shù)的門(mén)控數字源 (GDS)
免維護
射頻高達 1 kHz
單極中壓放電
預點(diǎn)火和積分參數可以單獨參數化
射頻和放電特性可自由參數化
點(diǎn)火電壓 20kV
230V;50/60赫茲;1.5kVA
待機模式下 200 W
GS 1000-II
描述
GS 1000-II 是 OBLF 系列中最小的成員,是適用于所有標準應用的單矩陣火花發(fā)射光譜儀。由于其緊湊堅固的結構以及簡(jiǎn)單的操作,它非常適用于鑄造廠(chǎng)等生產(chǎn)環(huán)境,
也適用于進(jìn)貨和材料控制。為了保證不受光譜儀周?chē)獠織l件的影響,檢測器(光電倍增管)和集成系統安裝在溫度穩定的真空光學(xué)器件中。分析能力涵蓋短波元素的精確分析,如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和氮以及鋁中的磷。
主要特征
緊湊型光譜儀
GDS III 建議
真空光學(xué)
自清潔火花架
可選配“mini-GISS”
可選雙電極系統
技術(shù)參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長(cháng)范圍 140-770 nm
光學(xué)元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C,具有出色的長(cháng)期穩定性
自動(dòng)計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據各自波長(cháng)選擇 PMT 類(lèi)型
抗震性
帶集成多火花系統的門(mén)控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點(diǎn)火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點(diǎn)火電壓 20kV
寬 60 厘米
身高 110 厘米
深度 108 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V;50/60赫茲;1,5 kVA
待機模式下 200 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
常用型號
OBLF MVS 1000
OBLF GS 1000-II
OBLF VeOS
OBLF QSN750-II
OBLF QSG750-II
OBLF 雙電極系統