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OBLF QSG 750-II

 

OBLF的QSG 750-II火花發(fā)射光譜儀也堪稱(chēng)OBLF的旗艦機型。OBLF QSG 750-II這種單基質(zhì)或多基質(zhì)模型非常適合要求盡可能低的檢測限、最高程度的重現性和有關(guān)分析物的額外冶金信息的所有應用。OBLF QSG 750-II應用范圍從鋼鐵廠(chǎng)或其他冶煉廠(chǎng)等初級生產(chǎn)商到金屬加工公司，再到研究機構和大學(xué)。

 

 

OBLF QSG 750-II

好處

多矩陣應用

多達 64 個(gè) PMT 單元通道

GDS III 火花發(fā)生器

真空系統

自清潔火花架

適用于自動(dòng)化系統

門(mén)控集成 (GISS)

包含分析（GISS）

可選 ULB 雙電極系統

自動(dòng)電極清潔作為選項

 

OBLF QSG 750-II

技術(shù)數據

OBLF QSG 750-II光學(xué)

 

Paschen-Runge 安裝中的光譜儀

羅蘭圓直徑 750 毫米

波長(cháng)范圍 110-770 nm

光學(xué)元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C，具有出色的長(cháng)期穩定性

自動(dòng)計算機控制的輪廓

昏迷矯正狹縫

根據各自波長(cháng)選擇 PMT 類(lèi)型

抗震性

 

 

OBLF QSG 750-II真空系統

 

抽真空的輕金屬室

免維護 2 級旋片泵

真空泵集成在機柜中

泵占空比 <5%

油擴散保護

自動(dòng)壓力調節和穩定