OBLF 火花光譜儀

OBLF的光譜儀型號因需要確定的矩陣和元素的數量而異。OBLF所有的系統都具有出色的長(cháng)期穩定性（真空光學(xué)）、低運營(yíng)成本（獲得專(zhuān)利的火花架，氬氣消耗量最少）和低維護需求（例如火花架的自動(dòng)吹掃）。OBLF的系統提供的分析通道數量是專(zhuān)門(mén)為滿(mǎn)足客戶(hù)要求而量身定制的。OBLF每個(gè)設備都使用經(jīng)過(guò)認證的參考材料單獨校準。

OBLF

MVS 1000

OBLFMVS 1000 適用于多種分析要求，例如多矩陣應用。OBLFMVS 1000經(jīng)濟高效的設備始終通過(guò)傳感器線(xiàn)檢測完整的發(fā)射光譜。OBLFMVS 1000大量的元素通道和擴展很容易實(shí)現。

 

OBLF

GS1000-II

OBLF

GS1000-II這種緊湊型光譜儀分析了一種金屬基體的所有相關(guān)元素。OBLF

GS1000-II使用光電倍增管作為檢測器。

 

OBLF

可視化操作系統

OBLFVeOS 適用于多種分析要求，例如多矩陣應用。OBLF

可視化操作系統設備始終通過(guò)傳感器線(xiàn)檢測完整的發(fā)射光譜。OBLF

可視化操作系統大量的元素通道和擴展很容易實(shí)現。

 

OBLF

QSN 750-II

OBLFQSN 750-II 是 OBLFGS 1000-II 的多矩陣版本

 

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QSG 750-II

OBLFQSG 750-II 使用與OBLF QSN 750-II 相同的光學(xué)系統，但配備了OBLF GISS 技術(shù)。

 

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雙電極系統

盡可能縮短分析時(shí)間并提高采樣率。一次測量中有兩個(gè)燃燒點(diǎn)。