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      Nidec 常溫晶片裝置的特征與優(yōu)勢

          

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      品牌Nidec 有效期至長(cháng)期有效 最后更新2022-12-22 09:31
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      Nidec 常溫晶片裝置的特征與優(yōu)勢

       產(chǎn)品特征

      常溫接合廣泛用于以下幾類(lèi):

      晶片級封裝

      特別對于MEMS和晶體器件,我們可以通過(guò)無(wú)熱變形的封裝來(lái)提高器件質(zhì)量并降低成本。

      功能性晶片的制造

      通過(guò)接合不同材料的裸晶片,可以制造出各種功能性晶片。

      直接接合的應用

      不使用樹(shù)脂、合金等中間材料,直接接合,因此器件特性得到改善。

      此外,中間材料的成本可以降低到零。

      晶片堆疊

      可以將硅通孔 (TSV) 的晶片多層接合,從而用于制造 3D 集成器件。

      不加熱,可確保器件的可靠性。

      此外,由于沒(méi)有熱變形,可以將器件的內應力降至。

       

      引進(jìn)設備的優(yōu)勢:

      通過(guò)無(wú)熱變形的接合大大提高了產(chǎn)量。

      由于可以接合各種類(lèi)型的材料,因此大大擴展了器件設計的自由度。

      由于沒(méi)有熱變形,器件可以做得更小更薄,并且可以提高每枚晶片的產(chǎn)量。

      強接合可限度減少接合面積并提高每枚晶片的產(chǎn)量。

      由于是直接接合,因此無(wú)需使用樹(shù)脂或金屬作為中間材料,可以降低成本。

      無(wú)需特殊的實(shí)用程序,并且可以將運行成本保持在較低水平。

      沈陽(yáng)漢達森YYDS邊慶杰

      Nidec 常溫晶片接合工具裝置

       

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