常用型號
郭浪
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OBLF MVS 1000
OBLF GS 1000-II
OBLF VeOS
OBLF QSN750-II
OBLF QSG750-II
OBLF 雙電極系統
OBLF 直讀光譜儀
MVS 1000
描述
MVS 1000 火花發(fā)射光譜儀可以對所有常見(jiàn)金屬材料進(jìn)行多功能、靈活和快速的材料分析。MVS 1000 以極具吸引力的成本使用最現代的檢測器技術(shù)。
分析能力包括短波元素的精確分析,如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和鋁中的磷。
主要特征
完整而靈活地覆蓋所有常見(jiàn)的分析任務(wù)
簡(jiǎn)單的擴展選項
最新、專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的探測器技術(shù)
在檢出限、精密度、穩定性方面表現良好
堅固的結構,適用于惡劣環(huán)境
最廣泛的多矩陣應用
緊湊型光譜儀
技術(shù)參數
Paschen-Runge 設置中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
光學(xué)和讀出系統溫度穩定在 35 °C ± 0.1 °C,以獲得最佳的長(cháng)期穩定性
計算機控制的自動(dòng)分析
針對波長(cháng)范圍優(yōu)化的傳感器線(xiàn)
沒(méi)有傳感器線(xiàn)路涂層的高紫外線(xiàn)靈敏度
輕金屬真空室
免維護旋片泵
真空泵集成在外殼中
防止油回火和油擴散
采用 Stromtor 技術(shù)的門(mén)控數字源 (GDS)
免維護
射頻高達 1 kHz
單極中壓放電
預點(diǎn)火和積分參數可以單獨參數化
射頻和放電特性可自由參數化
點(diǎn)火電壓 20kV
230V;50/60赫茲;1.5kVA
待機模式下 200 W
GS 1000-II
描述
GS 1000-II 是 OBLF 系列中最小的成員,是適用于所有標準應用的單矩陣火花發(fā)射光譜儀。由于其緊湊堅固的結構以及簡(jiǎn)單的操作,它非常適用于鑄造廠(chǎng)等生產(chǎn)環(huán)境,
也適用于進(jìn)貨和材料控制。為了保證不受光譜儀周?chē)獠織l件的影響,檢測器(光電倍增管)和集成系統安裝在溫度穩定的真空光學(xué)器件中。分析能力涵蓋短波元素的精確分析,如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和氮以及鋁中的磷。
主要特征
緊湊型光譜儀
GDS III 建議
真空光學(xué)
自清潔火花架
可選配“mini-GISS”
可選雙電極系統
技術(shù)參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長(cháng)范圍 140-770 nm
光學(xué)元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C,具有出色的長(cháng)期穩定性
自動(dòng)計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據各自波長(cháng)選擇 PMT 類(lèi)型
抗震性
帶集成多火花系統的門(mén)控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點(diǎn)火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點(diǎn)火電壓 20kV
寬 60 厘米
身高 110 厘米
深度 108 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V;50/60赫茲;1,5 kVA
待機模式下 200 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
OBLF VeOS
描述
OBLF 的 VeOS 火花發(fā)射光譜儀采用基于為發(fā)射光譜專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的半導體探測器的尖端探測器技術(shù),能夠對所有常見(jiàn)金屬材料進(jìn)行多功能、靈活和快速的分析。分析光譜還包括對短波長(cháng)元素(如氮或低碳)的精確分析。
主要特征
完整而靈活地包含所有分析任務(wù)
易于擴展的功能
最新、專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的探測器技術(shù)
在檢出限、精密度、穩定性方面表現出色
用于重型環(huán)境的堅固設計
最全面的多矩陣應用選項,對分析元素的選擇沒(méi)有任何限制
準確檢測 N 和痕量碳 (ULC)
技術(shù)參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長(cháng)范圍 130-700 nm
光學(xué)元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C,具有出色的長(cháng)期穩定性
冷卻光學(xué)元件和讀出系統
自動(dòng)計算機控制的輪廓
每個(gè)波長(cháng)區域的優(yōu)化檢測器線(xiàn)
沒(méi)有傳感器涂層的高紫外線(xiàn)靈敏度
抗震性
帶集成多火花系統的門(mén)控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點(diǎn)火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點(diǎn)火電壓 20kV
寬 74 厘米
身高 134 厘米
深度 115 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V;50/60赫茲;1,5 kVA
待機模式下 300 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
QSN 750-II
我們的 QSN 750-II 型號是一款火花發(fā)射光譜儀,由于其 750 mm真空光學(xué)元件,可用作單矩陣或多矩陣系統。這導致了廣泛的應用領(lǐng)域,不僅涵蓋了整個(gè)金屬生產(chǎn)和加工企業(yè),而且還包括材料測試人員和測試機構的廣泛選擇。
集成系統和光電倍增管均按照客戶(hù)要求進(jìn)行布置,均安裝在光學(xué)器件內部,因此可免受外部影響。溫度穩定的光學(xué)元件和門(mén)控數字源 (GDS)技術(shù)保證了高度的信號再現性和分析穩定性。
易于觸及的自清潔和專(zhuān)利火花支架和孔窗使用戶(hù)能夠進(jìn)行無(wú)故障維護。排氣過(guò)濾器可確保清除消耗的氬氣。
主要特征
多矩陣應用
多達 64 個(gè) PMT 單元通道
GDS III 火花發(fā)生器
真空系統
自清潔火花架
適用于自動(dòng)化系統
雙電極系統作為選項
自動(dòng)電極清潔作為選項
技術(shù)參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 750 毫米
波長(cháng)范圍 110-770 nm
光學(xué)元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C,具有出色的長(cháng)期穩定性
自動(dòng)計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據各自波長(cháng)選擇 PMT 類(lèi)型
抗震性
帶集成多火花系統的門(mén)控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點(diǎn)火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點(diǎn)火電壓 20kV
穩定的 PMT 高壓電源
每個(gè)通道動(dòng)態(tài) 16 位 AD 轉換
DSP 處理器控制
USB 接口至光譜儀 PC
尺寸和重量
寬 104 厘米
身高 130 厘米
深度 90 厘米
重量 約 460 公斤
電源供應
230V;50/60赫茲;1,5 kVA
待機模式下 500 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
QSG 750-II
描述
我們的QSG 750-II火花發(fā)射光譜儀也堪稱(chēng)OBLF的旗艦機型。這種單基質(zhì)或多基質(zhì)模型非常適合要求盡可能低的檢測限、最高程度的重現性和有關(guān)分析物的額外冶金信息的所有應用。
應用范圍從鋼鐵廠(chǎng)或其他冶煉廠(chǎng)等初級生產(chǎn)商到金屬加工公司,再到研究機構和大學(xué)。
QSG 750-II 與QSN 750-II型號相當。主要區別在于數據記錄系統,它基于OBLF 開(kāi)發(fā)的GISS技術(shù)(單火花門(mén)控集成)。在尺寸相同的情況下,它還配備了久經(jīng)考驗的硬件組件,
如溫度穩定的 750 毫米真空光學(xué)器件、具有可自由定義參數的門(mén)控數字源 (GDS)技術(shù)和獲得專(zhuān)利的自清潔火花支架。排氣過(guò)濾器可確保清除消耗的氬氣。所有關(guān)鍵設備部件都易于訪(fǎng)問(wèn),簡(jiǎn)化了需要用戶(hù)執行的服務(wù)任務(wù)。
主要特征
多矩陣應用
多達 64 個(gè) PMT 單元通道
GDS III 火花發(fā)生器
真空系統
自清潔火花架
適用于自動(dòng)化系統
門(mén)控集成 (GISS)
包含分析(GISS)
可選 ULB 雙電極系統
自動(dòng)電極清潔作為選項
技術(shù)參數
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 750 毫米
波長(cháng)范圍 110-770 nm
光學(xué)元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C,具有出色的長(cháng)期穩定性
自動(dòng)計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據各自波長(cháng)選擇 PMT 類(lèi)型
抗震性
抽真空的輕金屬室
免維護 2 級旋片泵
真空泵集成在機柜中
泵占空比 <5%
油擴散保護
自動(dòng)壓力調節和穩定
帶集成多火花系統的門(mén)控數字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點(diǎn)火和積分可選的單獨參數
可由軟件選擇的可變勵磁參數和放電特性
點(diǎn)火電壓 20kV
開(kāi)放式樣品臺,便于操作
低磨損頂板,開(kāi)口 12 毫米
可選擇用于小零件和電線(xiàn)的適配器
低磨損鎢電極
用于快速樣品處理的氣動(dòng)樣品夾
自動(dòng)電極清潔作為選項
每次測量大約消耗 3 升氬氣
易于維護
穩定的 PMT 高壓電源
每個(gè)通道 23 位 AD 轉換
GISS 技術(shù)(單火花門(mén)控集成)
DSP 處理器控制
USB 接口至光譜儀 PC
尺寸和重量
寬 104 厘米
身高 130 厘米
深度 90 厘米
重量 約 460 公斤
電源供應
230V;50/60赫茲;1,5 kVA
待機模式下 500 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
品牌簡(jiǎn)介
德國OBLF分析儀器公司位于多特蒙德,始建于1975年,是德國第一家專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)光電直讀光譜儀的公司,世界著(zhù)名品牌,用戶(hù)遍及世界各地。
德國OBLF 公司直讀光譜儀由一系列高性能 Spark OES 儀器組成。所有裝置都采用多種常用的強大模塊構建。該系列包括:采用光電倍增管(PMT)做為檢測器的GS 1000-II、QSN 750-II 和 QSG 750-II儀器以及采用固態(tài)探測器(CCD)的 VeOS光譜儀。
憑借在光子學(xué)和精密工程領(lǐng)域 40 多年的經(jīng)驗,OBLF 現已成為世界上最重要的固定式金屬分析光譜儀開(kāi)發(fā)商和制造商之一。我們的企業(yè)里程碑始終基于我們產(chǎn)品的持續開(kāi)發(fā),以造福于我們的客戶(hù)。這是我們企業(yè)理念的特征。